镀膜前基底先用玻璃液清洗，去离子水漂洗，氮气吹干，然后用纯度为99.9%的丙酮、无水乙醇超声波各清洗15 min，用专用擦拭纸擦干后装入真空室。　　

镀制时用机械泵和扩散泵将真空度抽至6.5×10^-4Pa时，设定自动镀制程序。当基底被加热到沉积温度150℃时，离子源开始轰击基底，能量控制在60～90 eV，时间10 min。然后自动启动电子枪加热蒸发膜料，沉积薄膜，沉积速率0.38～0.42 nm/s，薄膜沉积到设计厚度440 nm时，程序自动关闭电子枪，完成镀制。　　

镀膜后真空室自然冷却到室温取出样品，用Lambda900(测试范围为175～3 300 nm)分光光度计进行样品TiO₂的光谱测试，采用Macleod软件包络法计算TiO₂薄膜的实际厚度，消光系数和折射率。　　

对真空室通入不同流量的高纯氧气，研究不同的真空度对TiO₂的成膜质量、折射率、吸收系数的影响。